A Faculdade de Tecnologia de Registro (Fatec), no estado de São Paulo, divulgou na última sexta-feira (20), no Diário Oficial do Poder Executivo, uma retificação referente ao período de inscrição do Processo Seletivo de número 299/01/2022.
Conforme o documento (retificação I) houve uma atualização em seu período de inscrição, e agora os candidatos podem se inscrever no período de 20 de maio de 2022 a 3 de junho deste mesmo ano. Aos candidatos inscritos nos editais Nº 299/02/2022 e Nº 299/03/2022, o prazo de inscrição é o mesmo, e todas as candidaturas podem ser feitas no site da CPS.
O Processo Seletivo
Segundo o edital, a oportunidade ofertada é para a função de professor de ensino superior.
As Vagas e Funções
Edital Nº 299/01/2022: Matemática para computação (Desenvolvimento de software multiplataforma) (1)
Edital Nº 299/02/2022: Ciência da computação/engenharia da computação (1)
Edital Nº 299/03/2022: Ciência da computação/Engenharia da computação (1)
As três vagas disputadas serão de acordo com o perfil dos candidatos. Dentro do total de funções ofertadas, haverá oportunidades específicas para pessoas que se enquadram nos critérios do edital.
Dos Requisitos
É necessário os candidatos tenham graduação, especialização, mestrado ou doutorado nas áreas exigidas, idade mínima de 18 anos, estejam em dia com as obrigações militares e eleitorais, não tenham sido demitidos nos últimos cinco anos, entre outros requisitos, no momento em que forem admitidos. A carga horária é de no máximo 200 horas mensais de acordo com a CEETEPS, tendo como salário base R$ 34,13 por hora-aula.
Das Provas
Como processo avaliativo, os Processos Seletivos contarão apenas com uma fase de análise do memorial circunstanciado, que será entregue junto com os documentos comprobatórios no ato de inscrição. Tal avaliação tem como objetivo a análise dos documentos pertinentes a graduação, pós-graduação e experiências profissionais.
O prazo dos Processos Seletivos assim como dos contratos de trabalho serão de um ano, podendo ser prorrogados por igual.